光刻膠概念漲停潮:關(guān)注光刻膠概念兩大核心標的

光刻膠概念漲停潮:關(guān)注光刻膠概念兩大核心標的
2019年07月17日 18:44 新浪財經(jīng)綜合

來源:金融投資網(wǎng)

  近日,日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省宣布從7月4日起,日本半導體材料、OLED材料等將限制對韓國出口,開始對韓國進行經(jīng)濟制裁。限制材料有3種:“氟聚酰亞胺”、“光刻膠”和“高純度氟化氫”,日本方面要求出口商每次出貨時都要獲得許可,這需要大約90天的時間。受此消息影響,光刻膠概念繼氟化工概念之后成為當前A股市場最大的風口!從周三的盤面來看,晶瑞股份(300655)直接“一”字漲停,南大光電(300346)、光華科技(002741)、飛凱材料(300398)、西隴科學(002584)、彩虹股份(600707)、強力新材(300429)、容大感光(300576)、廣信材料(300537)等多只光刻膠概念股封于漲停!此次日韓互撕,將為中國的光刻膠產(chǎn)業(yè)帶來難得的發(fā)展機遇。因此,作為國內(nèi)光刻膠領(lǐng)域兩大核心龍頭企業(yè)對應的上市公司,晶瑞股份(300655)和高盟新材(300200)必將成為光刻膠概念的兩大龍頭品種。尤其是高盟新材(300200),其剛剛受讓國內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)北京科華微電子的股權(quán),補漲空間值得期待!

  日韓互撕:國產(chǎn)光刻膠迎來重大機遇

  近日,日本政府突然宣布,從7月4日起,日本半導體材料、OLED材料等將限制對韓國出口,開始對韓國進行經(jīng)濟制裁。限制材料有3種:“氟聚酰亞胺”、“光刻膠”和“高純度氟化氫”,日本方面要求出口商每次出貨時都要獲得許可,這需要大約90天的時間。

  據(jù)韓國貿(mào)易協(xié)會發(fā)行的相關(guān)報告顯示,韓國半導體及顯示器行業(yè)在氟聚酰亞胺、光刻膠,以及氟化氫這三類材料對日本的依賴度分別是91.9%、43.9%及93.7%。

  韓國《朝鮮日報》在本月2日的報道稱,若因日本政府加強對韓出口管制導致半導體等制造過程中所需的3種材料無法進口,半導體巨頭三星電子和SK海力士等確保的庫存約1個月,即使加上3個月左右的成品庫存也只能“維持三四個月”。MBC電視臺指出,最壞的情況是工廠生產(chǎn)線可能停工。

  韓國半導體與顯示技術(shù)協(xié)會負責人ParkJea-gun表示,三星電子和SK海力士正在尋求從中國購買更多材料。他補充說,還包括會去日本之外的國家尋找?guī)齑娑嘤嗟钠髽I(yè),向它們采購。

  光刻膠是半導體集成電路制造的核心材料。光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%,并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%-60%。因此光刻膠是半導體集成電路制造的核心材料。

  光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學品之一,按應用領(lǐng)域可分為PCB(線路板)用、平板顯示(LCD、LED)用和半導體用三類,目前國內(nèi)市場上絕大多數(shù)廠商生產(chǎn)的產(chǎn)品為前兩者。

  在大規(guī)模集成電路的制造過程中,光刻和刻蝕技術(shù)是精細線路圖形加工中最重要的工藝,占芯片制造時間的40%~50%,光刻膠是光刻工藝得以實現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。

  為適應集成電路線寬不斷縮小的要求,光刻膠的波長由紫外寬譜向g線(436nm)→i線(365nm)→KrF(248nm)→ArF(193nm)→F2(157nm)的方向轉(zhuǎn)移,并通過分辨率增強技術(shù)不斷提升光刻膠的分辨率水平。

  目前半導體市場上主要使用的光刻膠包括g線、i線、KrF、ArF四類光刻膠,其g線和i線光刻膠是市場上使用量最大的光刻膠。

  半導體用光刻膠技術(shù)壁壘較高、市場高度集中,日美企業(yè)基本壟斷了g/i線光刻膠、KrF/ArF光刻膠市場,生產(chǎn)商主要有JSR、信越化學工業(yè)、TOK、陶氏化學等。

  國產(chǎn)光刻膠發(fā)展起步較晚,與國外先進光刻膠技術(shù)相比國內(nèi)產(chǎn)品落后4代,目前主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD 光刻膠等中低端產(chǎn)品,雖然PCB領(lǐng)域已初步實現(xiàn)進口替代,但LCD 和半導體用光刻膠等高端產(chǎn)品仍需大量進口,正處于由中低端向中高端過渡階段。

  不過,隨著國家層面對半導體在資金、政策上的大力支持,國內(nèi)光刻膠企業(yè)正在努力追趕,企業(yè)數(shù)量從2012年的5家增長到2017年15家,少數(shù)企業(yè)在中高端技術(shù)領(lǐng)域已取得一定突破。

  其中,半導體用光刻膠領(lǐng)域代表性企業(yè)有晶瑞股份(300655)的子公司蘇州瑞紅和高盟新材(300200)參與投資的北京科華,兩者分別承擔了02專項i線(365nm)光刻膠和KrF線(248nm)光刻膠產(chǎn)業(yè)化課題。目前,晶瑞股份(300655)的子公司蘇州瑞紅實現(xiàn)g/i線光刻膠量產(chǎn),可以實現(xiàn)0.35μm的分辨率,248nm光刻膠中試示范線也已建成;高盟新材(300200)參股的北京科華KrF/ArF光刻膠已實現(xiàn)批量供貨。

  光刻膠概念兩大核心標的:晶瑞股份(300655)和高盟新材(300200)

  蘇州瑞紅和北京科華絕對是國內(nèi)光刻膠領(lǐng)域技術(shù)最領(lǐng)先的兩大企業(yè),這兩大核心企業(yè)對應的上市公司分別是晶瑞股份(300655)和高盟新材(300200)。

  今年 6月28日,晶瑞股份(300655)發(fā)布公告稱,公司全資子公司蘇州瑞紅承擔是國家科技重大專項(02專項)“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”之《i 線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化》項目,近日順利通過了專家組驗收。

  晶瑞股份(300655)表示,通過該項目的實施,形成了我國先進的光刻膠生產(chǎn)和研發(fā)示范基地:

  ①研發(fā)的i線正膠完成了產(chǎn)品定型,各項技術(shù)指標和工藝性能滿足0.35~0.25μm集成電路技術(shù)和生產(chǎn)工藝要求,建成了100噸/年規(guī)模的i線正膠產(chǎn)品生產(chǎn)線,并已向客戶供貨。

  ②研發(fā)的厚膜膠完成了產(chǎn)品定型,一次性涂膜厚度達到2~20μm,技術(shù)指標符合硅片級封裝及相關(guān)產(chǎn)業(yè)的工藝要求,建成了20噸/年規(guī)模的厚膜膠生產(chǎn)線,并已向客戶供貨。

  ③完成了248nm深紫外光刻膠成膜樹脂和配膠的中試技術(shù)研究,研發(fā)的248nm深紫外光刻膠分辨率達到了0.25~0.13μm的技術(shù)要求,建成了中試示范線。

  通過該項目研發(fā)任務的圓滿完成,蘇州瑞紅在i線正膠和厚膜膠方面將全面實現(xiàn)規(guī)模化生產(chǎn),并為248nm深紫外光刻膠的產(chǎn)業(yè)化奠定堅實的技術(shù)基礎,預計將對蘇州瑞紅的未來發(fā)展產(chǎn)生積極影響。

  去年11月初,晶瑞股份曾在互動平臺上表示,公司i線光刻膠產(chǎn)品正在與華虹宏力、武漢新芯、中芯國際等晶圓廠接洽、測試、送樣過程中,尚未形成批量銷售。

  今年3月,晶瑞股份(300655)表示其i線光刻膠已通過中芯國際上線測試,業(yè)界認為下半年開始有望陸續(xù)接獲相關(guān)產(chǎn)品訂單。

  北京科華微電子陳昕總帶領(lǐng)的國際化團隊從事光刻膠行業(yè)近三十年,在光刻膠領(lǐng)域具有豐富的實踐經(jīng)驗和理論經(jīng)驗,完成了紫外正性光刻膠、集成電路用高分辨G線正膠、I線正膠、KrF-248nm深紫外光刻膠的產(chǎn)線建設和量產(chǎn)出貨,是集先進光刻膠產(chǎn)品研、產(chǎn)、銷為一體的擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的行業(yè)標桿企業(yè),特別是KrF-248nm光刻膠代表了國內(nèi)目前最先進的光刻膠研發(fā)與生產(chǎn)水平。

  高盟新材(300200)2019年1月4日晚公告,公司擬以自有資金不超1998萬元,受讓南大光電(300346)持有的北京科華3.67%股權(quán)。交易完成后,公司將持有北京科華3.67%股權(quán)。據(jù)悉,北京科華是集光刻膠研發(fā)、生產(chǎn)、檢測、銷售于一體的中外合資企業(yè),也是國內(nèi)唯一一家擁有高檔光刻膠自主研發(fā)及生產(chǎn)實力的國家級高新技術(shù)企業(yè)。2017年獲得SEMI全球光刻膠企業(yè)前十;2018年獲批“光刻膠國家地方聯(lián)和工程研究中心”;并建有北京市發(fā)改委命名的“光刻膠北京市工程實驗室”。值得一提的是,科華微電子是目前國內(nèi)唯一擁有荷蘭ASML曝光機的光刻膠公司,其最小分辨率可達0.11um。通過與客戶晶圓廠同樣的檢測設備配置,實現(xiàn)了上下游產(chǎn)品檢測的無縫對接。

  科華微電子始終將光刻膠國產(chǎn)化事業(yè)作為企業(yè)的愿景和使命,公司成立至今承接了國家02科技重大專項、國家“163”重大科技項目、國防科工委“十一五”重點科技項目、國家發(fā)改委產(chǎn)業(yè)化示范工程項目以及北京市科委重點計劃項目、北京市工業(yè)促進局工業(yè)發(fā)展資金項目等國家級、北京市級重大課題,在各級政府的支持下科華微電子不負眾望,實現(xiàn)了G線正膠、I線正膠、KrF-248nm深紫外光刻膠的產(chǎn)業(yè)化,加快了半導體事業(yè)國產(chǎn)化進程。

  科華微電子一直以來堅持自主創(chuàng)新,將以客戶需求為導向的研發(fā)創(chuàng)新作為公司的核心競爭力,建成了一支國際化研發(fā)團隊,在光刻膠成膜樹脂結(jié)構(gòu)、感光材料結(jié)構(gòu)、光刻膠配方及生產(chǎn)工藝控制技術(shù)等方面取得了很大的成就,并在高端晶圓加工應用、先進封裝應用、MINI LED、MICRO LED、分立器件應用等領(lǐng)域積累了豐富的系列產(chǎn)品和深厚的技術(shù)儲備,是中芯國際、華潤上華、杭州士蘭微、吉林華微電子、三安光電華燦光電、德豪光電等行業(yè)頂尖客戶的穩(wěn)定合作伙伴。

  到2018年,北京科華目前已經(jīng)完成了248nm KrF光刻膠生產(chǎn)線的建設,且其KrF光刻膠是國內(nèi)唯一一家通過中芯國際認證的國內(nèi)產(chǎn)品,實現(xiàn)了量產(chǎn)出貨,這個進度比KrF光刻膠還只是中試生產(chǎn)的晶瑞股份(300655)旗下子公司蘇州瑞紅要快。

  高盟新材(300200)對于此次收購北京科華微電子表示,根據(jù)公司未來發(fā)展戰(zhàn)略,結(jié)合國內(nèi)外新材料行業(yè)發(fā)展趨勢,公司積極探尋在電子及半導體應用領(lǐng)域先進高分子材料方面的發(fā)展機會。公司希望通過參股電子化學品領(lǐng)域公司,尋求雙方在技術(shù)、業(yè)務和市場方面相互協(xié)同,對公司進一步拓展電子化學品領(lǐng)域業(yè)務具有積極作用,符合公司的戰(zhàn)略布局。本次投資北京科華,可為公司帶來一定的投資收益,有利于進一步拓展公司在電子化學品領(lǐng)域市場。

  我們認為,光刻膠是半導體集成電路制造的核心材料光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%,并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%-60%。此次日韓互撕,將為中國的光刻膠產(chǎn)業(yè)帶來難得的發(fā)展機遇。因此,作為國內(nèi)光刻膠領(lǐng)域兩大核心龍頭企業(yè)對應的上市公司,晶瑞股份(300655)和高盟新材(300200)必將成為光刻膠概念的兩大龍頭品種。

責任編輯:張恒星 SF142

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