好消息！這家公司采購(gòu)的ASML光刻機(jī)已進(jìn)廠

　　時(shí)隔三個(gè)多月，這臺(tái)ASML的光刻機(jī)終于入廠了。

　　早在2020年9月29日，晶瑞股份公告，擬通過(guò)代理商進(jìn)口韓國(guó)芯片廠商SK海力士的一臺(tái)阿斯麥的光刻機(jī)，總價(jià)1102.5萬(wàn)美元。消息一出，公司股價(jià)立刻大漲。

　　2021年1月19日晚，晶瑞股份公告稱，經(jīng)公司多方協(xié)商、積極運(yùn)作，順利購(gòu)得ASML XT 1900 Gi型光刻機(jī)一臺(tái)。該設(shè)備于2021年1月19日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室。下一步，公司將積極組織相關(guān)資源，盡快完成設(shè)備的安裝調(diào)試工作。

　　來(lái)源：晶瑞股份

　　晶瑞股份董秘陳萬(wàn)鵬告訴中國(guó)證券報(bào)記者：“公司主要用來(lái)測(cè)試正在研發(fā)的ArF光刻膠，在這個(gè)領(lǐng)域我們國(guó)家還是空白，光刻機(jī)會(huì)很大程度加快公司的研發(fā)進(jìn)程。同時(shí)公司未來(lái)準(zhǔn)備以這臺(tái)光刻機(jī)為核心設(shè)備，打造一個(gè)半導(dǎo)體材料的綜合研發(fā)平臺(tái)?！?/p>

　　來(lái)源：Wind

　　用于研發(fā)ArF光刻膠

　　晶瑞股份是通過(guò)代理商從SK海力士手里購(gòu)買的一臺(tái)二手浸入式（DUV）光刻機(jī)。

　　公告介紹，公司采購(gòu)的光刻機(jī)設(shè)備為ASML XT 1900 Gi型ArF 浸入式光刻機(jī)，可用于研發(fā)最高分辨率達(dá)28nm的高端光刻膠。

　　據(jù)了解，根據(jù)曝光波長(zhǎng)不同，目前光刻膠可分為普通寬普光刻膠、 g線（436nm）、i 線（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）及最先進(jìn)的 EUV(<13.5nm) 光刻膠，等級(jí)越往上，其極限分辨率越高，同一面積的硅晶圓布線密度就越大，性能越好。

　　晶瑞股份采購(gòu)的ASML1900型光刻機(jī)有助于其研發(fā)ArF（193nm）光刻膠。

　　來(lái)源：晶瑞股份

　　晶瑞股份全資子公司蘇州瑞紅，是國(guó)內(nèi)最早規(guī)模量產(chǎn)光刻膠的幾家企業(yè)之一。蘇州瑞紅1993年開(kāi)始光刻膠生產(chǎn)，量產(chǎn)光刻膠近30年，組建了國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的光刻膠研發(fā)團(tuán)隊(duì)，具有豐富的光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，先后承擔(dān)了國(guó)家“85”攻關(guān)、“863”重大專項(xiàng)、科技部創(chuàng)新基金等科技項(xiàng)目、承擔(dān)了國(guó)家02重大專項(xiàng)“i線光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目，并順利通過(guò)國(guó)家02重大專項(xiàng)驗(yàn)收。

　　據(jù)介紹，公司完成中試的KrF光刻膠已進(jìn)入客戶測(cè)試階段，達(dá)到0.15μm的分辨率。本次購(gòu)買的ASML光刻機(jī)設(shè)備系公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目的必要實(shí)驗(yàn)設(shè)備，旨在研發(fā)出更高端的ArF光刻膠。若研發(fā)工作進(jìn)展順利，將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越，并最終實(shí)現(xiàn)應(yīng)用于12英寸芯片制造的戰(zhàn)略布局。

　　晶瑞股份公告稱，本次公司采購(gòu)的ASML光刻機(jī)設(shè)備順利交付，可以保障公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目關(guān)鍵設(shè)備的技術(shù)先進(jìn)性，對(duì)加快產(chǎn)品研發(fā)項(xiàng)目進(jìn)度有積極影響，有利于進(jìn)一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競(jìng)爭(zhēng)力，有助于落實(shí)公司發(fā)展戰(zhàn)略，提高公司抗風(fēng)險(xiǎn)能力和可持續(xù)發(fā)展能力。

　　晶瑞股份也提示，公司研發(fā)項(xiàng)目經(jīng)歷時(shí)間較長(zhǎng)，且至產(chǎn)業(yè)化并最終實(shí)現(xiàn)銷售產(chǎn)生利潤(rùn)仍需一定時(shí)間，本次購(gòu)買的光刻機(jī)設(shè)備價(jià)格昂貴，其折舊及后續(xù)維護(hù)費(fèi)用預(yù)計(jì)對(duì)公司的經(jīng)營(yíng)業(yè)績(jī)存在一定影響。

　　光刻膠研發(fā)有進(jìn)展

　　晶瑞股份公告中表示，目前高端集成電路材料的核心產(chǎn)業(yè)化技術(shù)仍掌握在國(guó)外企業(yè)手中，大部分市場(chǎng)份額仍被外企所占據(jù)，不少集成電路用關(guān)鍵材料已經(jīng)成為我國(guó)“卡脖子”的技術(shù)領(lǐng)域，在國(guó)際環(huán)境日益嚴(yán)峻的情況下，如不能成功實(shí)現(xiàn)該領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)化，未來(lái)將付出更大的代價(jià)。

　　公開(kāi)信息顯示，以ArF光刻膠、KrF厚膜光刻膠為代表的高端光刻膠以及工藝的主要技術(shù)和專利目前都掌握在國(guó)外的企業(yè)與研究部門，如日本的信越化學(xué)(Shin-Etsu Chemical)、合成橡膠(JSR)、東京應(yīng)化(TOK)、住友化學(xué)，這些企業(yè)幾乎占據(jù)了國(guó)內(nèi)外高端光刻膠市場(chǎng)全部份額。

　　ArF光刻膠是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，可以用于 90nm-14nm，甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 AI 芯片、5G 芯片、大容量存儲(chǔ)器和云計(jì)算芯片等）。

　　在ArF光刻膠研發(fā)的過(guò)程中，光刻機(jī)必不可少，其購(gòu)買、運(yùn)輸、安裝過(guò)程也備受關(guān)注。

　　1月5日，上海新陽(yáng)公告稱，自立項(xiàng)開(kāi)發(fā)193nm ArF干法光刻膠的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目以來(lái)，根據(jù)項(xiàng)目進(jìn)度，計(jì)劃安排購(gòu)買了ASML-1400光刻機(jī)等核心設(shè)備。后受美國(guó)針對(duì)我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的出口管制措施加強(qiáng)及新冠疫情影響，公司進(jìn)口光刻機(jī)的程序更加復(fù)雜。公司與光刻機(jī)供應(yīng)商、合作方溝通協(xié)調(diào)設(shè)備運(yùn)輸與安裝細(xì)節(jié)，涉及場(chǎng)地條件、物流運(yùn)輸條件等等，沒(méi)能在規(guī)定時(shí)間內(nèi)完成，但就具體合作細(xì)節(jié)已簽署了《合作框架協(xié)議》。

　　上海新陽(yáng)介紹，未來(lái)公司將采購(gòu)的用于193nm ArF干法光刻膠研發(fā)的ASML-1400光刻機(jī)放置于合作方指定的地點(diǎn)，雙方正在溝通協(xié)商光刻機(jī)入廠的底座安裝及制作事宜，待底座安裝完成后，光刻機(jī)即可進(jìn)入合作方進(jìn)行調(diào)試使用。預(yù)計(jì)光刻機(jī)進(jìn)入合作方現(xiàn)場(chǎng)的時(shí)間是2021年3月底前。

　　2020年12月17日，南大光電公告顯示，控股子公司寧波南大光電材料有限公司（簡(jiǎn)稱“寧波南大光電”）自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。

　　寧波南大光電購(gòu)買安裝的光刻機(jī)也是ASML的1900型號(hào)浸沒(méi)式光刻機(jī)。公告介紹，“ArF光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國(guó)家“02專項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過(guò)，標(biāo)志著“ArF 光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破。

　　南大光電介紹，ArF光刻膠的市場(chǎng)前景好于預(yù)期。隨著國(guó)內(nèi)IC行業(yè)的快速發(fā)展，自主創(chuàng)新和國(guó)產(chǎn)化步伐的加快，以及先進(jìn)制程工藝的應(yīng)用，將大大拉動(dòng)光刻膠的用量。本次通過(guò)客戶認(rèn)證的產(chǎn)業(yè)化意義大。本次驗(yàn)證使用的50nm閃存技術(shù)平臺(tái)，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺(tái)的光刻膠在業(yè)界有代表性。

　　此外，南大光電1月4日還公告完成了對(duì)寧波南大光電的增資擴(kuò)股，寧波南大光電實(shí)現(xiàn)融資2.6億元。

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責(zé)任編輯：陳志杰