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　　出品：新浪財經上市公司研究院

　　作者：SXX

　　引言：隨著我國經濟發展進入更加重視質量與創新的新時代，一批“專業化、精細化、特色化、新穎化”的企業逐漸成為我國創新的發源地，資本市場的發展也在與時俱進，北交所設立的核心目標之一就是為“專精特新”中小企業服務。為此，新浪財經在浙商證券研究所策略研究團隊提供的榜單數據支持基礎上，推出“專精特新TOP100”系列報道，旨在外絕一批主營業務聚焦，創新能力強，成長性高，專注于細分市場的小巨人。

　　2021年半年報顯示，南大光電實現營業收入4.42億元，同比增長 69.14%；歸屬于上市公司股東的凈利潤 8552.02 萬元，同比下降 3.23%；考慮到上年同期出售參股公司股權確認的投資收益的一次性因素，主營利潤的實際增長快速，上半年歸屬于上市公司股東的扣除非經常性損益后的凈利潤 6587.35 萬元，同比增長 4013.99%。

　　南大光電是一家專業從事先進電子材料高新技術企業，三大業務分別為先進前驅體材料、電子特氣和光刻膠。

　　MO源工藝領先打破國外壟斷 市占率超40%

　　MO源是光電產業的支撐材料之一，其純度、品質對最終的光電器件或高頻器件的質量和性能起著決定性作用。 MO源即高純金屬有機源，是利用先進的金屬有機化學氣相沉積（以下簡稱“MOCVD”）工藝生成化合物半導體材料的關鍵支撐原材料，因而又被稱為MOCVD的“前驅體”。 MO源的質量直接決定了最終器件的性能，因此MOCVD工藝對MO源的質量要求很高，其中純度是衡量MO源質量的關鍵指標。

　　這個行業歷史上一度屬于國外壟斷。2000 年南大光電成立時依托公司創始人孫祥禎先生的研發成果，公司 MO 源成功實現產業化，打破國外在這一光電子原材料領域的壟斷地位。

　　MO源行業具有寡頭壟斷市場特征。目前全球范圍內MO源的生產廠商較少，只有中國、美國、歐洲、日本四個區域的少數幾個公司擁有產業化生產的能力。

　　公司是全球主要的MO源生產商，在國內市場處于領導地位。南大光電成長為全球 MO源主要生產商，全球市占率超過 40%，在 MO 源的合成制備、純化技術、分析檢測、封裝容器等方面已全面達到國際先進水平。

　　南大光電在MO源的合成制備、純化技術、分析檢測、封裝容器等方面已全面達到國際先進水平，主要產品有三甲基鎵、三甲基銦、三乙基鎵、三甲基鋁等，產品的純度大于等于6N，可以實現MO源產品的全系列配套供應，同時可以根據客戶需求提供定制產品服務，在激烈的市場競爭中，具有明顯的競爭優勢。

　　與此同時，南大光電的合成環節采用獨特的合金法，該方法和鹵化物法相比工藝簡單，原料無腐蝕性，副產物少，且價格便宜，有效解決 MO 源污染嚴重的問題。

　　多元化布局對沖行業波動

　　公司自 2017 年后 MO 源三甲基鎵、三甲基銦占主營業務比重逐年降低，公司依賴 LED 行業景氣度的情況得到改善，特氣業務有效彌補了因 LED行業下行帶來的 MO 源增速減緩。

　　今年半年報顯示，特氣產品已經是公司收入第一大貢獻源，且毛利率也較高，具體如下圖：

　　公司為了規避行業波動性，開始積極向其他半導體材料領域布局，包括全椒南大光電磷烷、砷烷產品的開發，收購飛源氣體布局含氟特氣業務，以及正在研發產業化當中的 ArF 光刻膠項目。

　　在磷烷、砷烷產品方面，公司自 2013 年起立項攻關，在 2016 年完成一期量產，年產 35 噸高純磷烷、15噸高純砷烷，產品純度均達到 6N 標準以上級。根據相關信息顯示，目前公司已占據國內 75%市場份額，并進入英特爾、歐司朗、飛利浦等一流公司供應商名錄。

　　在氫類電子特氣領域，公司打破了國外技術封鎖和壟斷，成功實現了國產磷烷、砷烷的產業化，實現進口替代，并快速占據國內市場份額，因此南大光電是國產磷烷、砷烷制造的領軍企業。

　　飛源氣體方面，相比其他競爭對手具有成本優勢和客戶認證優勢。根據公開信息顯示，成本端國內主要競爭對手第一套 NF3 裝置的總投資規模從 2.7 億元/千噸到 4 億元/千噸不等，行業中位數3.1 億元。而飛源氣體的 NF3 一套裝置總投資遠低于上述水平。目前，已成為國內集成電路及平板顯示領域多家領軍企業的重要供應商。

　　光刻膠方面，公司正在自主研發和產業化的ArF光刻膠（包含干式及浸沒式）可以達到90nm-14nm的集成電路工藝節點，將實現高端光刻膠材料的進口替代，提升國家關鍵材料領域自主可控水平，解決“卡脖子”技術難題。

　　值得一提的是，2017及2018年，公司分別獲得國家02專項“高分辨率光刻膠與先進封裝光刻膠產品關鍵技術研發”和“ArF光刻膠產品的開發和產業化”項目的正式立項。經過幾年的組織建設和技術攻關，上述項目分別于2020年5月和2021年7月通過國家02專項專家組的驗收。

　　此外，公司是國內ArF光刻膠研發和產業化的領先企業。 2020年12月，公司研發的ArF光刻膠產品在一家存儲芯片制造企業的50nm閃存平臺上通過認證，成為國內通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠，報告期內又在一家邏輯芯片制造企業55nm技術節點的產品上取得了認證突破，為ArF光刻膠的規?；慨a奠定基礎。公司正在積極推動客戶驗證和量產工作，相關配套材料產業化也在穩步推進。

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責任編輯：公司觀察