轉自：沈陽日報

　　在芯片制造行業，有一種設備和光刻機同樣重要，那就是薄膜沉積設備。近年來，沈陽拓荊科技有限公司（以下簡稱拓荊科技）憑借PECVD、ALD等一系列先進的半導體薄膜沉積設備，成為國內該領域的領頭羊，引領行業快速發展。

　　今年前三季度，拓荊科技出貨金額同比增長超過160%，公司在手訂單飽滿，未來新簽訂單趨勢樂觀。

　　聚焦主業

　　2010年，拓荊科技在沈成立。公司成立以來一直專注于高端半導體設備領域，以國家級海外高層次專家組建起一支國際化的技術團隊，深耕薄膜沉積領域，逐步形成了三大類半導體薄膜設備產品系列（PECVD設備、ALD設備及溝槽填充系列設備），后續拓展了混合鍵合設備。

　　“在公司成立之初，依托國家科技重大專項研制了12英寸PECVD設備并推向市場，實現了PECVD設備的產業化應用。在此過程中，公司掌握了PECVD薄膜沉積設備的核心技術，并積累了設備產品從研發到產業化的經驗?！蓖厍G科技董事長呂光泉介紹。

　　經過十余年的創新發展，公司PECVD、ALD、超高深寬比溝槽填充CVD、混合鍵合等設備產品陸續通過客戶驗證，　　，拓荊科技：穩健前行?深耕半導體設備）進入客戶量產線，并不斷擴大量產規模。目前，拓荊科技在沈陽、上海和海寧有研發和產業化基地。沈陽一廠研發和生產基地年產能約300—350臺套。拓荊科技現階段正在規劃沈陽二廠產業化基地的建設，為公司后續發展提供產能支撐。

　　成長機遇

　　“隨著數字化、自動化、智能化需求的浪潮迭起，以人工智能、物聯網、智能駕駛等為代表的新興產業創新發展，對半導體芯片的性能和效率提出了更高的要求?！眳喂馊f，面對新興市場需求的不斷涌現，高端半導體設備產業需要持續迭代創新，不斷提升產品性能，以滿足市場對于更高性能、更低功耗、更小尺寸的集成電路的需求，同時，也產生了巨大的半導體設備市場空間。

　　在高端半導體設備中，薄膜沉積設備、光刻設備、刻蝕設備共同構成芯片制造三大核心設備，決定了芯片制造工藝的先進程度。薄膜沉積設備所沉積的薄膜是芯片結構內的功能材料層，在芯片制造過程中需求量巨大，且直接影響芯片的性能。由于不同芯片結構所需要的薄膜材料種類不同、沉積工序不同、性能指標不同，相應產生了巨大的薄膜沉積設備市場。

　　“我國近年來在半導體設備領域發展較快，但高端半導體設備自給率仍較低，這也為包括拓荊科技在內的國內半導體設備廠商的發展提供了巨大的機遇?！眳喂馊硎?。

　　研發投入

　　目前，拓荊科技成熟產品的核心技術及關鍵性能指標均已達到國際同類設備先進水平，并在客戶端廣泛應用，這與拓荊科技不斷加大力度推進產品研發及產業化密不可分。

　　2021年至2023年，拓荊科技研發投入在營業收入中的占比分別為38.04%、22.21%和21.29%。2024年前三季度，拓荊科技研發投入4.81億元，同比增長35.73%。

　　目前，拓荊科技已經掌握了一系列具有自主知識產權的核心技術，并達到國際先進水平。在薄膜設備方面，公司核心技術廣泛應用于主營業務產品中，解決了半導體制造中納米級厚度薄膜均勻一致性、薄膜表面顆粒數量少、快速成膜、設備產能穩定高速等關鍵難題，在保證實現薄膜工藝性能的同時，提升客戶產線的產能，減少客戶產線的生產成本。在混合鍵合設備方面，公司形成了晶圓高速高精度對準技術、混合鍵合實時對準技術，實現較高的晶圓鍵合精度，并提高了設備產能。

　　據了解，截至2024年6月30日，拓荊科技累計申請專利1279項（含PCT）、獲得專利402項。其中，拓荊科技今年上半年新增申請專利74項（含PCT）、新增獲得專利45項。

　　沈陽日報、沈報全媒體記者?黃超

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