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格隆匯4月18日|美國芯片公司英特爾宣布，其代工廠已接收并完成組裝業(yè)界首臺商用高數(shù)值孔徑（High NA）極紫外（EUV）光刻機(jī)。據(jù)介紹，這套重達(dá)165噸的設(shè)備是阿斯麥（ASML）與英特爾合作數(shù)十年后開發(fā)的新一代光刻設(shè)備，現(xiàn)位于俄勒岡州的D1X制造工廠，正在進(jìn)行最后的校準(zhǔn)。
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責(zé)任編輯：郭明煜
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