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中國基金報
10月12日晚間，蘇大維格（維權）披露深交所下發(fā)的關注函。針對其在互動易平臺對投資者提問有關“光刻機”相關回復涉嫌存在不真實、不準確、不完整情形及誤導性陳述的行為啟動紀律處分程序。
模糊用詞引發(fā)當日漲停
根據深交所下發(fā)的關注函顯示，蘇大維格在互動易平臺對投資者提問的有關“光刻機”相關回復受到媒體和投資者廣泛質疑，并引起股價大幅波動，涉嫌存在不真實、不準確、不完整情形及誤導性陳述，市場影響惡劣，交易所將對蘇大維格及相關違規(guī)當事人啟動紀律處分程序。
9月14日午間，蘇大維格在投資者互動平臺中對光刻機出貨的描述“光刻機已向國內龍頭芯片企業(yè)銷售。”，引發(fā)了市場的強烈關注，當日股價漲停20%，成交金額高達15億元。次日，深交所隨即下發(fā)關注函。
事實上，蘇大維格方面在回復中未能充分考慮到部分投資者可能對光刻機的技術路線、相關技術的具體應用領域等情況不了解，也未詳細說明公司光刻設備的具體類型、主要的應用領域、與行業(yè)龍頭企業(yè)的差距，以及客戶主要用途等信息；同時，也未說明相關設備收入占公司收入比重較低，未充分提示相關風險。
此前，蘇大維格2023半年報中也曾提及，“公司光刻設備已向國內某芯片龍頭企業(yè)實現銷售，并向國內廠商提供應用于IC芯片投影式光刻機的核心部件定位光柵尺產品”。其與在投資互動平臺所回復整體內容表述類似，但是“光刻設備”一詞變?yōu)椤肮饪虣C”。
隨后，在10月8日，蘇大維格回復深交所關注函時表示：“一般所稱的光刻機是有掩模光刻機中的投影式光刻機，與公司所生產的激光直寫光刻機不屬于同一技術路線。”
資料顯示，泛半導體光刻技術可分為直寫光刻和掩模光刻。其中，直寫光刻精度較低，多用于IC后道封裝、低世代線平板顯示、PCB等領域；掩模光刻目前主流形式為投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工藝，后道先進封裝，以及中高世代線的FPD生產。目前，掩模光刻技術主要由ASML等海外廠商掌握，而直寫光刻在國內還有芯碁微裝等多家公司突破。
在9月18日-10月12日這近13個交易日，蘇大維格股價區(qū)間累計跌幅達29.09%，同期大盤漲幅0.24%。截至10月12日收盤，蘇大維格股價報24.82元/股，當日收跌2.36%，總市值為64.45億元。
此前曾多次使用“光刻機”一詞
值得注意的是，這并非蘇大維格第一次使用光刻機的表達，其首次將“光刻機”一詞寫入日常公告披露中為2015年年報，公告中表示“公司依靠先進的技術研發(fā)能力實現了從源頭的光刻機制造，到個性化圖形的微納結構設計，原版開發(fā)及批量生產模具的翻制，完全實現自我供給。”而在此后2019——2022年光刻機一詞均多次在年度報告中被提及，于8月25日發(fā)布的2023年半年度報告中，全文使用光刻機一詞6次。
盡管頻頻蹭“光刻機”概念，但是蘇大維格業(yè)績卻大幅下滑，2021年虧損3.49億元，2022年虧損2.79億元。2023年上半年，蘇大維格實現營業(yè)收入7.88億元，較上年同期下滑10.47%。
蘇大維格表示，目前公司生產的光刻設備主要為自用，外銷收入占公司整體銷售收入的比重不足 3%，占比較小，對公司經營業(yè)績沒有重大影響，未來能否進一步擴大應用領域和銷售規(guī)模存在較大不確定性。
（文章來源：中國基金報）
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