產能利用率逐步提升 半導體設備國產替代進程加速

產能利用率逐步提升 半導體設備國產替代進程加速
2023年09月05日 17:48 新浪基金

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  近期國內半導體領域利好在華為手機發布以及荷蘭光刻機出口管制延遲等積極因素影響下,半導體板塊表現較好。隨著下游需求逐漸復蘇,疊加半導體芯片產業鏈自主可控迎來重要催化,上游晶圓廠產能利用率逐步提升,預計短期板塊仍有一定反彈空間。

  在美國施壓下,荷蘭此前承諾從9月1日起對中國大陸實施半導體出口管制,限制中高端光刻機的出貨。然而,根據荷蘭光刻機巨頭ASML公司9月1日發布的公告,荷蘭方面已經批準了ASML提交的最新出口許可申請,確認將在2023年年底之前繼續向中國企業提供其NXT:2000i等更先進的浸潤式光刻設備。

  我們認為,這一調整利好國內半導體先進技術的發展和產能擴充。根據二季度荷蘭ASML浸沒式光刻機39臺的銷量,多出4個月窗口期,足以保障國內半導體領域未來2年左右的先進產能擴產,明顯好于此前市場的悲觀預期。

  2022年下半年以來,在消費電子市場萎靡、面板需求不振等因素影響下,半導體行業遭遇寒冬。國內半導體廠商紛紛宣布減產砍單,下行周期明顯。今年二季度產業鏈景氣仍在下行,中報業績整體較為疲軟。但不同于芯片設計、封測等多個環節的低迷,半導體設備環節業績亮眼。在當前科技封鎖的背景下,國內科技產業正迎難而上,晶圓廠不斷擴產,產能利用率逐步提升,設備領域的國產替代進程加速,空間廣闊。

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責任編輯:楊賜

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