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　　光刻膠龍頭，公布大消息

　　來源：上海證券報 

　　“好消息啊，我們一直在等待他家的新產能投產，現(xiàn)在供應的產品不夠用。”11月5日，彤程新材披露光刻膠項目新進展，某晶圓廠人士如此評述。

　　11月5日晚間，彤程新材公告稱，公司全資子公司上海彤程電子材料有限公司（簡稱“彤程電子”）在上海化學工業(yè)區(qū)投資建設年產1.1萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關配套試劑項目的工程階段已竣工，目前已逐步進入試生產階段。

　　年產300/400噸ArF及KrF

　　光刻膠產線進入試生產

　　根據(jù)公告，彤程電子上海化學工業(yè)區(qū)工廠占地36200平方米，設計能力年產1千噸半導體光刻膠、1萬噸顯示用光刻膠和2萬噸高純EBR試劑（光刻膠去邊劑）。同時在國際國內半導體廠商及光刻膠廠商戰(zhàn)略合作推動下，完成了產線優(yōu)化及品控升級。

　　其中，在半導體光刻膠方面，彤程電子的年產300/400噸ArF及KrF光刻膠量產產線，通過采用超高純PFA（涂層）設備、引入高精度物料流量控制系統(tǒng)、配以自研的高精度高效率光刻過濾系統(tǒng)，可以實現(xiàn)ppt級金屬雜質及0.1um級別的顆粒管控，具備不同配方先進制程光刻膠的生產能力。

　　對此，有業(yè)內人士表示，年產300/400噸ArF及KrF光刻膠的產能算比較大了，彤程新材半導體光刻膠品類也較多，此次擴產產能可同時供應國內大部分芯片制造商，能較好地滿足國內先進制程光刻膠的部分需求。

　　穩(wěn)定供應國內頭部芯片制造商

　　半導體光刻膠是備受市場關注的領域，彤程新材在半導體光刻膠領域實力如何？

　　在此次進展公告中，公司透露，在ArF光刻膠產品方面，公司已經完成ArF光刻膠部分型號的開發(fā)，首批ArF光刻膠的各項出貨指標能對標國際光刻膠大廠產品，已具備量產能力，目前處于量產前的光刻工藝測試及產品驗證階段，能否驗證通過尚存在一定的不確定性。

　　在G線、I線及KrF光刻膠產品方面，彤程新材G線光刻膠已經占據(jù)國內較大的市場份額；I線光刻膠已廣泛應用于國內6英寸、8英寸、12英寸集成電路產線，支持的工藝制程涵蓋14nm及以上工藝。KrF光刻膠量產品種達20種以上，穩(wěn)定供應國內頭部芯片制造商。

　　此前，彤程新材在2023年半年報中披露，報告期內公司繼續(xù)加大在半導體光刻膠方面的研發(fā)投入，新增研發(fā)立項48項，包括14個KrF光刻膠項目，26個I線光刻膠項目，8個新材料項目。新產品銷售收入占比達到半導體光刻膠業(yè)務收入總額的41.36%。今年上半年，KrF光刻膠依然保持著較快的增速達到52.56%；I線光刻膠方面，ICA光刻膠開始放量，增長率達到96.82%。

　　在2022年年報中，彤程新材披露，截至2022年底公司共有22家12英寸客戶，20家8英寸客戶，8/12英寸客戶的營收貢獻率是公司半導體光刻膠業(yè)務營收貢獻的主力。新產品方面，2022年公司共有68支新品通過客戶驗證并獲得訂單，新產品銷售額在半導體光刻膠總收入中的占比達到40%，再創(chuàng)歷史新高。

　　2021年，彤程新材新增21支新產品通過客戶驗證并獲得訂單，新產品銷售額在半導體光刻膠總收入中的占比達到25.96%，創(chuàng)歷史新高。產品序列方面，21支新品包括248nm（KrF）光刻膠10支、I線光刻膠9支、LED及先進封裝用光刻膠2支，如國內首款248nm負性光刻膠DKN系列產品，高分辨I線光刻膠C7600系列產品及厚膜ICA光刻膠C9120系列產品。

　　彤程新材同時披露，為解決ArF光刻膠所需的高純溶劑及國內先進工藝制程的需求，公司已經搭建完成高純EBR裝置，成為國內首家建有高純EBR精餾塔設備及掌握高純精餾技術的本土溶劑供應商。公司生產的EBR溶劑已達到G4等級規(guī)格，可滿足國內40納米以下工藝制程的芯片制造技術需求，年產2萬噸的規(guī)模量產能力可有效滿足國內先進制程需求。

　　公司預計第四季度將完成高純度G5等級EBR的驗證，目前已在國內幾家先進芯片制造商中逐步推動產品驗證。

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責任編輯：楊紅卜