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技術(shù)解盤(3月2日):向上突破可能較大
http://whmsebhyy.com 2000年03月03日 09:22 上海證券報網(wǎng)絡(luò)版

  周四大盤蓄勢整理,震蕩盤升,成交量有所萎縮,日K線為一根上影線8.58點,下影線15.03點,實體15 .45點的小陽線,5日均量線繼續(xù)上移。均線系統(tǒng)中5日線向上對股指形成直接支撐,10日線再續(xù)升勢,短期均線呈多頭 排列。指標(biāo)系統(tǒng)中MACD紅柱有所收斂,趨向指標(biāo)DMI之+DI與-DI開口收小,ADX走平,表明上行壓力較重,隨 機(jī)指標(biāo)KDJ之三線發(fā)散向上,為持倉信號;10日W%R三浪上升至頂部區(qū),表明買盤仍將踴躍,6日RSI繼續(xù)運行在相 對強勢區(qū)。

  今日大盤在1700點上下拉鋸整理,收出帶較長下影線的陽線,K線組合表現(xiàn)為強勢調(diào)整,后市向上突破的可能性 較大。明日上證綜指上檔阻力位1733點,1756點,強阻力1770點,下檔支撐位1700點,1692點,強支撐 1666點。

  (世基投資)



 
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