據(jù)最新統(tǒng)計(jì)，2008年我國(guó)共受理專(zhuān)利申請(qǐng)828328件，同比增長(zhǎng)19.4％，其中受理國(guó)內(nèi)申請(qǐng)717144件，占總量的86.6％，同比增長(zhǎng)22.3％；受理國(guó)外申請(qǐng)111184件，占總量的13.4％，同比增長(zhǎng)3.5％。

　　據(jù)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局相關(guān)人士分析，2008年我國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)與授權(quán)具有以下主要特點(diǎn)：第一，專(zhuān)利申請(qǐng)量繼續(xù)保持平穩(wěn)較快增長(zhǎng)；第二，國(guó)內(nèi)職務(wù)申請(qǐng)所占比重首次超過(guò)非職務(wù)申請(qǐng)；第三，申請(qǐng)專(zhuān)利的企業(yè)數(shù)量明顯增多、單個(gè)企業(yè)的平均申請(qǐng)量明顯增多、有百件以上申請(qǐng)的企業(yè)明顯增多；第四，國(guó)內(nèi)專(zhuān)利申請(qǐng)和授權(quán)結(jié)構(gòu)明顯優(yōu)化，國(guó)內(nèi)申請(qǐng)中發(fā)明專(zhuān)利所占比例有所提高，國(guó)內(nèi)外發(fā)明專(zhuān)利授權(quán)量呈五五開(kāi)；第五，各技術(shù)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)均呈增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)，絕大部分增速達(dá)到兩位數(shù)，但從高技術(shù)領(lǐng)域發(fā)明專(zhuān)利授權(quán)量看，國(guó)內(nèi)僅在通信技術(shù)等個(gè)別領(lǐng)域占優(yōu)，運(yùn)輸、聲像技術(shù)、發(fā)動(dòng)機(jī)、光學(xué)、半導(dǎo)體、醫(yī)學(xué)技術(shù)和電氣設(shè)備等領(lǐng)域仍是國(guó)外領(lǐng)先；第六，專(zhuān)利審批能力逐步增強(qiáng)，2008年我國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)授權(quán)量同比增長(zhǎng)17.1％，其中需要大批高水平審查員進(jìn)行實(shí)質(zhì)審查的發(fā)明專(zhuān)利授權(quán)量增至93706件，同比增長(zhǎng)37.9％。

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