記者王永群合肥報道芯碩半導體（中國）有限公司日前對外正式宣布，由其自主研發的首臺具有世界先進水平、擁有自主知識產權的無掩膜（直寫式）光刻機在合肥面世。中國工程院院士張鐘華、葉聲華帶隊的專家鑒定組在鑒定后認為，該成果在國際同類產品中處于先進水平，分辨率已經達到亞微米，性能穩定可靠，填補了國內光刻機在該領域的空白。

　　據研發公司負責人介紹，首臺光刻機下線后，將在今年6月至9月進行批量生產，預計年產量在100臺左右，這一產量將占據世界光刻機市場30％以上的份額，其中產品60％將用于出口。

　　據了解，光刻機是生產半導體芯片的最關鍵設備，目前我國半導體設備業是半導體和集成電路產業鏈中最薄弱的環節之一。無掩膜光刻機與國際同類產品相比在兼顧了高產能與高分辨率的同時，極大降低了使用成本，且應用范圍十分廣泛。