1月11日，我國首臺亞微米無掩膜（直寫式）光刻機(jī)通過科技成果鑒定，在安徽合肥成功面世。此項(xiàng)技術(shù)填補(bǔ)了國內(nèi)光刻機(jī)在該領(lǐng)域的空白，并且在國際同類產(chǎn)品中處于領(lǐng)先水平。

　　鑒定組專家一致認(rèn)定該機(jī)分辨率已經(jīng)達(dá)到亞微米，性能穩(wěn)定可靠，該無掩膜（直寫式）光刻機(jī)與國際同類產(chǎn)品相比，在兼顧了高產(chǎn)能與高分辨率的同時(shí)，極大地降低了使用成本，且應(yīng)用范圍廣，比國際同類產(chǎn)品不僅可應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)，還可廣泛應(yīng)用于生物、醫(yī)藥、光電、太陽能電池、新能源及薄膜電路等不同領(lǐng)域，其最大特點(diǎn)在于亞微米級的分辨率、高產(chǎn)能、操作便捷、運(yùn)行成本低。據(jù)介紹，這種無掩膜（直寫式）光刻機(jī)將于今年8月份投入批量生產(chǎn)，其中60%左右的產(chǎn)品將針對海外市場。

　　無掩膜（直寫式）光刻機(jī)的成功面世不僅打破了中國沒有能力生產(chǎn)自己的亞微米級直寫式光刻機(jī)的局面，同時(shí)也為中國半導(dǎo)體設(shè)備制造技術(shù)的提高打下堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，對中國微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重大的社會意義和經(jīng)濟(jì)價(jià)值。